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1EDI膜块污堵的判断
1设备的化学清洗及再生
虽然EDI膜块的进水条件在很大的程度上减少了膜块内部阻塞的机会，但是着设备运行时间的延展，EDI膜块内部水道还是有可能产生阻塞，这主要是EDI进水中含有较多的溶质，在浓水室中形成盐的沉淀。如果进水中含有大量的钙镁离子（硬度超过0.8ppm）、CO2和较高的PH值，将会加快沉淀的速度。遇到这种情况，我们可以通过化学清洗的方法对EDI膜块进行清洗，使之恢复到原来的技术特性。
2EDI膜块被污染堵塞的判定
1、在进水温度、流量不变的情况下，进水侧与产水侧的压差比原始数据升高45%。
2、在进水温度、流量不变的情况下，浓水进水侧与浓水排水侧的压差比原始数据升高45%。
3、在进水温度、流量及电导率不变的情况下，产水水质（电阻率）明显下降。
4、在进水温度、流量不变的情况下，浓水排水流量下降35%。
3膜块堵塞的几种形式
1、颗粒/胶体污堵
2、无机物污堵
3、有机物污堵
4、微生物污堵
EDI清洗注意：在清洗或消毒之前请先选择合适的化学药剂并熟悉安全操作规程，切不可在组件电源没有切断的状态下进行化学清洗。
●颗粒/胶体污堵
进水颗粒度≥5μm时会造成进水流道堵塞，引起膜块内部水流分布不均匀，从而导致膜块整体性能降低。如果EDI膜块的进水不是直接由RO产水端进入EDI膜块，而是通过RO产水箱经过增压泵供水，建议在进入EDI膜块前端增设保安过滤器（≤0.2μm）。在组装EDI设备时，所有的连接管道系统应冲洗干净以预防管道内的颗粒杂质进入膜块。
●无机物污堵
如果EDI进水含有较多的溶质且超出设计值或者回收率超过设计值时,将导致浓水室和阴极室的结垢，生成盐类物质析出沉淀，通常结垢的类型为钙、镁离子生成的碳酸盐。即便这类物质的浓度很小，接触时间也很短，但随着运行时间的累加，仍有发生结垢的可能，这种硬度结垢很容易通过酸洗去除。按照方案1中的方法，使用低PH溶液在系统内部循环清洗，可以去除浓水室和阴极室的结垢。
当进水中的铁和锰含量高，或者高TDS的水以外进入到EDI膜块时，也会使淡水室的离子交换树脂或者浓水室形成无几物污堵。可以采用方案2进行清洗。
●有机物污堵
当进水有机污染物TOC或TEA含量超过设计标准时，淡水室的离子交换树脂和离子膜会发生有机污堵。可以采用方案3的方法，用高PH值的药水对淡水室及浓水室循环清洗可以将有机分子清除出离子交换树脂对这种污堵进行清洗。
●微生物污堵
当设备运行环境适于微生物生长，或者进水中存在较多的细菌和藻类的时候，EDI膜块和系统也会发生微生物污堵。可以采用方案3、4中的方法用高PH盐水进行清洗。如果微生物污堵情形比较严重时，可以采用方案5进行清洗。如果同时伴有无机物污堵，可以按照方案6加入酸洗步骤。
对于极严重的微生物污堵，可以采用方案7或8以高PH药剂清洗。
2EDI膜块8大清洗方案
1清洗方案1——浓水室结垢清洗
1、记录清洗前所有数据。
2、分离EDI设备与其他设备的连接管路
3、连接清洗装置，使清洗泵通过浓水管路进入EDI膜块再回到清洗水箱，浓水进、出水阀开启，关闭EDI淡水进水阀和产水阀。
4、在清洗水箱配置2%浓度的盐酸清洗液。
5、启动清洗泵，调节浓水进水阀，以规定的流量循环清洗（酸洗步骤）。（参见附表）
6、停止清洗泵，排空清洗水箱清洗废液，分离浓水排水阀至地沟。
7、向清洗水箱连续注入清水（RO产水），启动清洗泵连续清洗（冲洗步骤）。
8、打开EDI进水阀和产水阀，同时对两个水室进行冲洗。
9、检测浓水出水侧的水质，直至与进水侧电导率相近。
10、各个阀门，恢复原始各设计流量数据。
11、恢复EDI各个管路与其他系统的连接。
12、开启PLC控制柜电源，向EDI膜块送电，转入正常运行，并作好初次运行的数据记录。
2清洗方案2——淡水室结垢清洗
1、记录清洗前所有数据。
2、分离EDI设备与其他设备的连接管路
3、连接清洗装置，使清洗泵通过进水管路分别进入EDI膜块的淡水室和浓水室，再回到清洗水箱，开启所有的进出水阀门。
4、在清洗水箱配置2%浓度的盐酸清洗液。
5、启动清洗泵，分别调节浓水、进水阀，以规定的流量循环清洗（酸洗步骤）。（参见附表）
6、停止清洗泵，排空清洗水箱清洗废液，分离浓水排水阀至地沟。
7、向清洗水箱连续注入清水（RO产水），启动清洗泵连续清洗（冲洗步骤）。
8、分别检测淡水、浓水出水侧的水质，直至与进水侧电导率相近。
9、调节各个阀门，恢复原始各设计流量数据。
10、停机，恢复EDI各个管路与其他系统的连接。
11、开启PLC控制柜电源，向EDI膜块送电，进行再生（再生步骤），直至电阻率达到出水要求为止。
12、转入正常运行，并作好初次运行的数据记录。
3清洗方案3——有机物污堵清洗
1、记录清洗前所有数据。
2、分离EDI设备与其他设备的连接管路
3、连接清洗装置，使清洗泵通过进水管路分别进入EDI膜块的淡水室和浓水室，再回到清洗水箱，开启所有的进出水阀门。
4、在清洗水箱配置1%浓度的氢氧化钠（NaOH）+2%盐（NaCl）的清洗液。
5、启动清洗泵，分别调节浓水、进水阀，以规定的流量循环清洗（碱洗步骤）。（参见附表）
6、停止清洗泵，排空清洗水箱清洗废液，分离浓水排水阀至地沟。
7、向清洗水箱连续注入清水（RO产水），启动清洗泵连续清洗（冲洗步骤）。
8、分别检测产水、浓水出水侧的水质，直至与进水侧电导率相近。
9、调节各个阀门，恢复原始各设计流量数据。
10、停机，恢复EDI各个管路与其他系统的连接。
11、开启PLC控制柜电源，向EDI膜块送电，进行再生（再生步骤），直至电阻率达到出水要求为止。
12、转入正常运行，并作好初次运行的数据记录。
4清洗方案4——有机物污堵和结垢
1、记录清洗前所有数据。
2、分离EDI设备与其他设备的连接管路
3、连接清洗装置，使清洗泵通过进水管路分别进入EDI膜块的淡水室和浓水室，再回到清洗水箱，开启所有的进出水阀门。
4、在清洗水箱配置2%浓度的盐酸清洗液。
5、启动清洗泵，分别调节浓水、进水阀，以规定的流量循环清洗（酸洗步骤）。参见附表）
6、停止清洗泵，排空清洗水箱清洗废液，分离浓水排水阀至地沟。
7、向清洗水箱连续注入清水（RO产水），启动清洗泵连续清洗（冲洗步骤）。
8、分别检测产水、浓水出水侧的水质，直至与进水侧电导率相近。
9、在清洗水箱配置1%浓度的氢氧化钠（NaOH）+2%盐（NaCl）的清洗液。
10、启动清洗泵，分别调节浓水、进水阀，以规定的流量循环清洗（碱洗步骤）。（参见附表）
11、停止清洗泵，排空清洗水箱清洗废液，分离浓水排水阀至地沟。
12、向清洗水箱连续注入清水（RO产水），启动清洗泵连续清洗（冲洗步骤）。
13、分别检测产水、浓水出水侧的水质，直至与进水侧电导率相近。
14、调节各个阀门，恢复原始各设计流量数据。
15、停机，恢复EDI各个管路与其他系统的连接。
16、开启PLC控制柜电源，向EDI膜块送电，进行再生（再生步骤），直至电阻率达到出水要求为止。
17、转入正常运行，并作好初次运行的数据记录。
微生物污堵可采用方案3进行
微生物污堵和结垢可饿采用方案4进行
5清洗方案5——严重的微生物污堵
1、记录清洗前所有数据。
2、分离EDI设备与其他设备的连接管路
3、连接清洗装置，使清洗泵通过进水管路进入EDI膜块的淡水室、浓水室，再回到清洗水箱，开启所有的进出水阀门。
4、在清洗水箱配置2%浓度的盐（NaCl）清洗液。
5、启动清洗泵，调节淡水、浓水进水阀，以规定的流量循环清洗（盐洗步骤）。（参见附表）
6、停止清洗泵，排空清洗水箱清洗废液，分离产水、浓水排水阀至地沟。
7、向清洗水箱连续注入清水（RO产水），启动清洗泵连续清洗（冲洗步骤）。
8、分别检测产水、浓水出水侧的水质，直至与进水侧电导率相近。
9、在清洗水箱配置0.04%浓度的过氧乙酸(CH3COOOH)+0.2%的过氧化氢（H2O2）清洗液。
10、启动清洗泵，分别调节淡水、浓水进水阀，以规定的流量循环清洗（消毒步骤）。（参见附表）
11、停止清洗泵，排空清洗水箱清洗废液，分离浓水排水阀至地沟。
12、向清洗水箱连续注入清水（RO产水），启动清洗泵连续清洗（冲洗步骤）。
13、分别检测产水、浓水出水侧的水质，直至与进水侧电导率相近。
14、在清洗水箱配置2%浓度的盐（NaCl）清洗液。
15、启动清洗泵，调节淡水、浓水进水阀，以规定的流量循环清洗（盐洗步骤）。（参见附表）
16、停止清洗泵，排空清洗水箱清洗废液，分离产水、浓水排水阀至地沟。
17、向清洗水箱连续注入清水（RO产水），启动清洗泵连续清洗（冲洗步骤）。
18、分别检测产水、浓水出水侧的水质，直至与进水侧电导率相近。
19、调节各个阀门，恢复原始各设计流量数据。
20、停机，恢复EDI各个管路与其他系统的连接。
21、开启PLC控制柜电源，向EDI膜块送电，进行再生（再生步骤），直至电阻率达到出水要求为止。
22、转入正常运行，并作好初次运行的数据记录。
6清洗方案6——严重的微生物污堵和结垢
1、记录清洗前所有数据。
2、分离EDI设备与其他设备的连接管路
3、连接清洗装置，使清洗泵通过进水管路进入EDI膜块的淡水室、浓水室，再回到清洗水箱，开启所有的进出水阀门。
4、在清洗水箱配置2%浓度的盐酸清洗液。
5、启动清洗泵，分别调节浓水、进水阀，以规定的流量循环清洗（酸洗步骤）。（参见附表）
6、停止清洗泵，排空清洗水箱清洗废液，分离浓水排水阀至地沟。
7、向清洗水箱连续注入清水（RO产水），启动清洗泵连续清洗（冲洗步骤）。
8、分别检测淡水、浓水出水侧的水质，直至与进水侧电导率相近。
9、在清洗水箱配置2%浓度的盐（NaCl）清洗液。
10、启动清洗泵，调节淡水、浓水进水阀，以规定的流量循环清洗（盐洗步骤）。（参见附表）
11、停止清洗泵，排空清洗水箱清洗废液，分离产水、浓水排水阀至地沟。
12、向清洗水箱连续注入清水（RO产水），启动清洗泵连续清洗（冲洗步骤）。
13、分别检测产水、浓水出水侧的水质，直至与进水侧电导率相近。
14、在清洗水箱配置0.04%浓度的过氧乙酸(CH3COOOH)+0.2%的过氧化氢（H2O2）清洗液。
15、启动清洗泵，分别调节淡水、浓水进水阀，以规定的流量循环清洗（消毒步骤）。（参见附表）
16、停止清洗泵，排空清洗水箱清洗废液，分离浓水排水阀至地沟。
17、向清洗水箱连续注入清水（RO产水），启动清洗泵连续清洗（冲洗步骤）。
18、分别检测产水、浓水出水侧的水质，直至与进水侧电导率相近。
19、在清洗水箱配置2%浓度的盐（NaCl）清洗液。
20、启动清洗泵，调节淡水、浓水进水阀，以规定的流量循环清洗（盐洗步骤）。（参见附表）
21、停止清洗泵，排空清洗水箱清洗废液，分离产水、浓水排水阀至地沟。
22、向清洗水箱连续注入清水（RO产水），启动清洗泵连续清洗（冲洗步骤）。
23、分别检测产水、浓水出水侧的水质，直至与进水侧电导率相近。
24、调节各个阀门，恢复原始各设计流量数据。
25、停机，恢复EDI各个管路与其他系统的连接。
26、开启PLC控制柜电源，向EDI膜块送电，进行再生（再生步骤），直至电阻率达到出水要求为止。
27、转入正常运行，并作好初次运行的数据记录。
7清洗方案7——极严重的微生物污堵
1、记录清洗前所有数据。
2、分离EDI设备与其他设备的连接管路
3、连接清洗装置，使清洗泵通过进水管路进入EDI膜块的淡水室、浓水室，再回到清洗水箱，开启所有的进出水阀门。
4、在清洗水箱配置2%浓度的盐（NaCl）清洗液。
5、启动清洗泵，调节淡水、浓水进水阀，以规定的流量循环清洗（盐洗步骤）。（参见附表）
6、停止清洗泵，排空清洗水箱清洗废液，分离产水、浓水排水阀至地沟。
7、向清洗水箱连续注入清水（RO产水），启动清洗泵连续清洗（冲洗步骤）。
8、分别检测产水、浓水出水侧的水质，直至与进水侧电导率相近。
9、在清洗水箱配置0.04%浓度的过氧乙酸(CH3COOOH)+0.2%的过氧化氢（H2O2）清洗液。
10、启动清洗泵，分别调节淡水、浓水进水阀，以规定的流量循环清洗（消毒步骤）。（参见附表）
11、停止清洗泵，排空清洗水箱清洗废液，分离浓水排水阀至地沟。
12、向清洗水箱连续注入清水（RO产水），启动清洗泵连续清洗（冲洗步骤）。
13、分别检测产水、浓水出水侧的水质，直至与进水侧电导率相近。
14、在清洗水箱配置1%浓度的氢氧化钠（NaOH）+2%盐（NaCl）的清洗液。
15、启动清洗泵，分别调节浓水、进水阀，以规定的流量循环清洗（碱洗步骤）。（参见附表）
16、停止清洗泵，排空清洗水箱清洗废液，分离浓水排水阀至地沟。
17、向清洗水箱连续注入清水（RO产水），启动清洗泵连续清洗（冲洗步骤）。
18、分别检测淡水、浓水出水侧的水质，直至与进水侧电导率相近。
19、调节各个阀门，恢复原始各设计流量数据。
20、停机，恢复EDI各个管路与其他系统的连接。
21、开启PLC控制柜电源，向EDI膜块送电，进行再生（再生步骤），直至电阻率达到出水要求为止。
22、转入正常运行，并作好初次运行的数据记录。
8清洗放案8——极严重的微生物污堵和结垢
1、记录清洗前所有数据。
2、分离EDI设备与其他设备的连接管路
3、连接清洗装置，使清洗泵通过进水管路进入EDI膜块的淡水室、浓水室，再回到清洗水箱，开启所有的进出水阀门。
4、在清洗水箱配置2%浓度的盐酸清洗液。
5、启动清洗泵，分别调节浓水、进水阀，以规定的流量循环清洗（酸洗步骤）。（参见附表）
6、停止清洗泵，排空清洗水箱清洗废液，分离浓水排水阀至地沟。
7、向清洗水箱连续注入清水（RO产水），启动清洗泵连续清洗（冲洗步骤）。
8、分别检测淡水、浓水出水侧的水质，直至与进水侧电导率相近。
9、在清洗水箱配置2%浓度的盐（NaCl）清洗液。
10、启动清洗泵，调节淡水、浓水进水阀，以规定的流量循环清洗（盐洗步骤）。（参见附表）
11、停止清洗泵，排空清洗水箱清洗废液，分离产水、浓水排水阀至地沟。
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13、分别检测产水、浓水出水侧的水质，直至与进水侧电导率相近。
14、在清洗水箱配置0.04%浓度的过氧乙酸(CH3COOOH)+0.2%的过氧化氢（H2O2）清洗液。
15、启动清洗泵，分别调节淡水、浓水进水阀，以规定的流量循环清洗（消毒步骤）。（参见附表）
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17、向清洗水箱连续注入清水（RO产水），启动清洗泵连续清洗（冲洗步骤）。
18、分别检测产水、浓水出水侧的水质，直至与进水侧电导率相近。
19、在清洗水箱配置1%浓度的氢氧化钠（NaOH）+2%盐（NaCl）的清洗液。
20、启动清洗泵，调节淡水、浓水进水阀，以规定的流量循环清洗（碱洗步骤）。（参见附表）
21、停止清洗泵，排空清洗水箱清洗废液，分离产水、浓水排水阀至地沟。
22、向清洗水箱连续注入清水（RO产水），启动清洗泵连续清洗（冲洗步骤）。
23、分别检测产水、浓水出水侧的水质，直至与进水侧电导率相近。
24、调节各个阀门，恢复原始各设计流量数据。
25、停机，恢复EDI各个管路与其他系统的连接。
26、开启PLC控制柜电源，向EDI膜块送电，进行再生（再生步骤），直至电阻率达到出水要求为止。
27、转入正常运行，并作好初次运行的数据记录。
下面是清洗方案选择表
各清洗方案的主要操作步骤：
各清洗方法时间
单个模块清洗时药液配用量
注：对于膜块数量大于1块时，按表中配液的数量乘以膜块数量。
清洗用化学药品规格：所有化学药品必须使用推荐的等级或高于推荐的等级
安全注意事项
1、在配置清洗药液时，必须穿戴好防护服、防护眼镜和防护手套。
2、需要清洗的设备管路必须是与其他连接设备的连接管路完全隔离的。
3、需要清洗的设备其电源必须是完全切断并有“正在操作，不得送电”的安全警示。
4、整个清洗过程中清洗的工作压力不能超过0.15MPa。
清洗设备组件
1、清洗循环泵（耐腐蚀泵）
2、清洗水箱（PP）
3、耐腐蚀清洗软管（与清洗泵适配）
4、耐腐蚀阀门（UPVC）
5、耐腐蚀压力表
6、过滤器（≤1μm）
工具：pH试纸（广泛）；温度计；计时表
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摘要：高盐废水“零排放”是当今很多企业需要面临的非常严峻的环保问题，而离子膜电渗析由于其独特的分离机制能够实现高盐废水中无机盐的分离、浓缩和资源化利用，从而实现水和盐的回收利用。本文综述了离子膜电渗析目前在高盐废水“零排放”盐浓缩工艺中的应用情况；展望了电渗析在高盐高COD废水中的
位于山东省淄博的东岳集团如今是亚洲规模最大的氟硅材料生产基地，也是中国氟硅行业龙头企业，多次攻克国外技术垄断。这些成就，离不开一张“膜”的研发。东岳集团董事长、党委书记张建宏，用20多年的时间，把一家乡镇企业打造成了全球知名的氟硅材料产业园区;用8年时间，攻克了被国外垄断30多年的离子膜生产技术，让中国在膜技术这一领域走在了世界的前列。对离子膜研发"痴迷"的张建宏，找到了搞离子膜研究的上海交通大学，双方携手攻关。一次次触礁失败，但东岳却始终坚持不懈。经过八年攻关，中国第一张全氟离子膜终于成功下线。攻克离子膜后
所属地区：安徽 受中盐安徽红四方股份有限公司委托，对其所需下列设备进行国内公开招标。 1、项目名称：中盐安徽红四方股份有限公司15万吨/年离子膜烧碱项目整流器及其辅助设备装置采购 2、招标范围：负责以下招标设备设计、制造、包装、运输、服务等。 3、供货范围：可控硅整流柜（6台）、现场控制柜（6台）、整流监控系统（1套）、纯水冷却器（3台）、极化整流器（6台）、直流传感器（6台）、直流隔离开关（12台）等具体详见招标文件。 4、交货期及交货地点：合同签订后四个月（投标人可以自报最短供货期）； 合肥市循环经济示范园（肥东县撮镇东3公里）项目施工现场 5、投
所属行业:机械电子电器,能源化工所属地区:重庆1.招标条件本次招标项目重庆天原化工有限公司10万吨/年离子膜烧碱填平补齐项目已由重庆化医控股(集团)公司批准建设，招标人为重庆天原化工有限公司，资金自筹。项目已具备招标条件，现对该项目电气部分用电缆进行公开招标，特邀请有兴趣的潜在投标人参与投标。2.项目概况与招标范围我司10万吨/年离子膜烧碱填平补齐项目是在原有装置上的扩建，现对该项目电气部分用电缆进行招标，详见招标文件。3.投标人资格和业绩要求3.1本次招标实行资格后审，投标人应满足下列资格条件和业绩要求：本项目要求制造厂家同时具有35KV、10KV、
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