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1.2 工艺简介
Array生产车间负责阵列基板的生产,包括玻璃基板清洗、化学气相沉积、溅射、光刻、刻蚀、剥离等工序。Array工艺使用外购的专用玻璃基板,充分清洗后在其清洁干净的表面上通过化学气相沉积(CVD)的方法形成半导体膜或绝缘膜,通过溅射镀膜的方法形成金属膜。然后对栅电极及引线、有源层孤岛、源漏电极及引线、接触过孔、像素电极,经光刻胶涂敷、光刻胶曝光、显影等光刻工艺并经湿法刻蚀、干法刻蚀后,剥离掉多余的光刻胶,经热处理把半导体特性作均一化处理后即做成阵列玻璃基板。Array工艺中使用大量的化学品和特气,产生大量VOCs和废气,是整个生产过程中污染物的重要来源。CF是TFT-LCD的重要组成部分,CF的质量直接影响TFT-LCD性能。CF基本结构是由玻璃基板(Glass Substrate)、黑色矩阵(Black Matrix)、彩色层(Color Layer)、保护层(Over Coat)及ITO导电膜组成。Cell生产车间负责制屏工序,即负责配向膜(PI)涂敷、固化、摩擦、封框胶及导通材涂布、液晶滴下、紫外及热固化、切割、磨边、测试等各工序的生产。Module车间负责模块的生产,包括偏光片贴敷、TCP焊接、PCB焊接、焊接检查、老化、返修、自动包装等工序。
2 废气排放
对某TFT-LCD工厂进行研究,根据各生产环节,所产生的废气主要有酸性废气、碱性废气、有毒废气、有机废气以及一般工业排气,详细记录见表2。
3 处置结果及讨论
根据表2,将TFT-LCD排放的废气分为酸、碱、有毒、有机共四个系统。
3.1 酸、碱性废气处置结果
酸、碱性废气处理系统(见图1)是通过添加化学品到各洗涤塔中,通过喷淋水泵进行循环,利用填料增加废气与循环液的接触面积,达到酸碱中和,实现废气达标排放。碱排洗涤塔,通过添加50%H2SO4去除氨等主要碱性废气,氨的去除效率可达90%以上。酸排洗涤塔,通过添加30%NaOH、12%Na2S及10%的NaClO2去除酸性废气。该系统氮氧化物的总去除效率可达65%、氯化氢的总去除效率可达90%、硫酸的总去除效率可达94%、硝酸的总去除效率可达94%、磷酸总去除率可达99%酸、碱性废气喷淋洗涤塔的溶液循环使用并定期排放,全部纳入废水处理站含氟废水处理系统进行处理。对酸排中的氮氧化物、氯化氢、硫酸雾以及碱排口中的氨进行检测(表3是检测值),碱排放口中氨的12个检测数据中,9次未检测出氨,检测值中,最大值2.7mg/m3,最小值0.7mg/m3。酸、碱性废气处置后排放值可以满足《大气污染物排放标准》(GB 16297—1996)中表2的二级标准和《恶臭污染物排放标准》(GB14554—1993)中表2的标准要求。
3.2 有毒废气处置结果
有毒废气主要来自化学气相沉积(CVD)和干法刻蚀(DE)等工序中使用SiH4、NH3、PH3、NF3、SF6、N2O、Cl2等特殊气体,除部分在工艺中反应消耗外,少量以尾气的形式排放,主要污染物为氯气、氨气、氯化氢、氟化物、氮氧化物等。毒排废气采用电除尘+酸碱中和的形式(见图2),各项指标都有90%以上的去除率,能够使废气中的污染物达标排放。对处置后烟气中的氮氧化物、氟化物、氨、氯气、氯化氢进行检测(见表4),各污染物排放值均达到《大气污染物排放标准》(GB 16297—1996)中表2的二级标准和《恶臭污染物排放标准》(GB 14554—1993)中表2的标准要求。
3.3 有机废气处置结果
有机废气来源于Array的掩膜光刻、光刻胶剥离工序,CF/Cell/Module工程的涂胶、RGB再生以及设备的擦试等。Array有机废气的主要成分为丙二醇单甲醚乙酸酯(PGMEA)、乙酸丁酯和乙醇胺等;CF有机废气的主要成分为丙二醇单甲醚乙酸酯(PGMEA)、丙二醇单甲醚(PGME)、3-乙氧基丙酸乙酯(EEP)、环己酮等有机物;Cell有机废气的主要成分为N-甲基吡咯烷酮(NMP)、丙酮等,而这些污染物最大的特点是浓度值低,对人体有一定的危害性[7]。有机废气处理主要通过沸石转轮,将大风量低浓度有机废气进行吸附后排放,通过高倍数浓缩再生成小风量高浓度气体,送入燃烧炉中焚化燃烧,处理效率为95%,最终达到去除有机物的目的。图3是有机废气处置后排放的非甲烷总烃的排放值,均满足《大气污染物排放标准》(GB 16297—1996)中表2的二级标准。
3.4 讨论
2018年3月生态环境部发布了《电子工业污染排放标准》第二次征求意见稿,对显示器件行业中污染物的排放指标做了严格的规定,氮氧化物:100mg/m³、氯化氢:15mg/ m³、硫酸雾:10mg/ m³、氟化物:5mg/ m³、氯气:5mg/ m³、氨:30mg/ m³、非甲烷总烃:100mg/ m³。相比于《大气污染物排放标准》(GB 16297—1996),各项指标的排放值更加严格。如果按征求意见稿中的排放值,从表3、表4中可得知,酸排中氮氧化物6月、7月检测为113mg/ m³和148mg/ m³,毒排2月氮氧化物排放值为122mg/ m³,1月和12月氯气的检测值分别为10.8和11mg/m³。相对于征求意见中新标准限值,氮氧化物和氯气都有超标。这对于TFT-LCD行业废气中污染物的排放提出了更高的要求。征求意见稿还对显示器件行业新增了污染因子排放指标(磷化氢1mg / m³和砷化氢1mg / m³)以及有机特征污染物(三氯乙烯1mg/ m³、苯4mg/ m³、甲醛5mg/m³、甲苯25mg/ m³、二甲苯40mg/ m³)。但这些指标目前TFT-LCD行业研究几乎是空白。为了迎接即将发布的新标准,TFT-LCD行业的污染处理设施,势必要进行提标改造。
4 结论
(1)TFT-LCD行业废气中主要排放的污染物来源于Array车间,其次是CF和Cell车间,主要通过酸、碱性废气处理系统,有毒废气处理系统和有机废气处理系统进行处置。
(2)TFT-LCD行业废气排放的污染物满足《大气污染物排放标准》(GB 16297—1996)和《恶臭污染物排放标准》(GB 14554—1993)的要求,但氮氧化物和氯气,偶尔排放值偏高,需要提标改造,以满足即将发布的《电子工业污染排放标准》。
(3)《电子工业污染排放标准》新增一些废气排放污染物,如三氯乙烯、磷化氢、砷化氢、苯、甲醛、甲苯、二甲苯等,而这些污染因素在TFT-LCD行业研究中缺乏,是今后研究工作的重点。
盛守祥1,于俊波2,徐元宁1,冯俊亭1,戴翔2,刘海生3
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