划知识点│电子工业废水处理工艺及案例分析

污染物产生及排放

1)切削加工：在平面磨床上干磨及砂轮机上抛光金属零件时产生钡铝粉、铬镍粉;高速切削时产生油烟;

2)电、气焊及等离子切割时产生金属蒸汽;

3)对激光打孔、激光切割、外型加工时产生的粉尘;

4)印制板生产设备如数控钻床、开槽机、倒角机等加工时产生的胶木粉尘;蚀刻机、去膜机、显影机产生的酸碱蒸汽;黑化设备产生的碱性废气;

5)涂胶和贴膜设备产生的含感光胶废气;

6)清洗时产生的酸碱废水;

7)采用有机溶剂清洗时产生四氯化碳等有机物废水;

8)电镀废水：氰化物、氯化物、铬酸、重金属(铜、镍、锌、银等)、酸碱及其它化学物质;

9)覆铜板用树脂制造过程中将产生甲醇、丙酮废气;

10)荧光粉着色干燥设备产生的异丙醇废气;

11)荧光粉烧成设备产生的二氧化硫废气;

12)荧光粉配料、过筛、混合等干法生产过程中产生的硫化锌粉尘;

13)覆铜板制造过程中产生的含酚废水;

14)覆铜板浸胶设备产生的含甲醇、丙酮及甲醛的废气;

15)氮化炉产生的氨废气;

16)半导体单晶制备中抛光设备产生的氯气;

17)半导体单晶制备中腐蚀设备产生的氨气;

18)生产过程中产生的废气主要为挥发性有机物废气，原材料中树脂内所含的挥发性有机物、有机稀释剂、有机清洗剂等除了少量残留在产品中外，都排放到空气、废水和固体废物中。

19)树脂、溶剂及其它挥发性有机物在配料、运输、存放时挥发有机物;

20)涂覆或含浸等加工以及从传输过程中挥发有机物;

21)在烘箱加热时挥发有机物;

22)后处理过程中挥发有机物;

23)电子化学品、电子浆料在抽取以及回收处理时挥发;

24)在使用溶剂清洗有关设备时挥发有机物;

25)废水处理、固体废物处理及其它处理时挥发有机物。

26)配料、研磨等处理过程中产生粉尘;

综上所述，电子工业废水主要来源于清洗时产生的酸碱废水、采用有机溶剂清洗时产生四氯化碳等有机物废水、电镀废水覆铜板制造过程中产生的含酚废水等等。

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